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  • 沈阳镨和取得高效真空镀膜装置专利,能够带动产品匀速旋转提高涂层均匀性:真空镀膜

    沈阳镨和取得高效真空镀膜装置专利,能够带动产品匀速旋转提高涂层均匀性:真空镀膜

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    金融界2025年3月20日消息,国家知识产权局信息显示,沈阳镨和真空电子设备有限公司取得一项名为“一种高效真空镀膜装置”的专利,授权公告号CN222631527U,申请日期为2024年4月真空镀

    2025-05-12
1 共1页

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