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    沈阳镨和取得真空镀膜基体清洁装置专利,使基体清洗更充分:真空镀膜

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    金融界2025年3月19日消息,国家知识产权局信息显示,沈阳镨和真空电子设备有限公司取得一项名为“一种真空镀膜基体清洁装置”的专利,授权公告号CN222625455U,申请日期为2024年3月真空

    2025-05-12
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